雷射加工、非破壞性檢測與干涉儀應用之繞射鏡片(Diffraction lens)
HOLO/ OR現在備有多樣化的庫存標準產品，可提供更有競爭力的價格與快速的出貨時間。此外，原廠也提供各種不同的訂製化規格，為客戶量身打造適合的解決方案，客戶群的應用包含：醫療雷射、儀器儀表、雷射元件加工、材料加工製程、感測器與其他元件的製程。
1. Diffractive Beam Shaping / Top-Hat / Flat-Top
(應用：曝光機、雷射加工)
平頂的光斑塑型片(The top-hat beam shaping)是一種繞射元件用以將近高斯(Near-Gausian)分佈的雷射入射光斑轉換成轉換成均勻強度與不同形狀的出射光斑，包括圓形、矩形、正方形、線型、或其他形狀，伴隨鋒利的光斑邊緣。一個均勻的光斑，使表面的光強度平均(不包含過渡區域)，此外，其光斑特徵決定於一個清晰的過渡邊界分辨出均勻處理與未處理的區域特徵。
2. Diffractive Homogenizer / Diffuser
(應用：雷射光混和、曝光機、螢幕顯色均勻化)
我們的勻化片產品線，靈活的將任何平行輸入的入射光轉換成均勻強度和理想的光斑形狀輸出，波長範圍橫跨UV to 10.6um。我們的勻化片，可使用在任何需要將雷射強度均勻擴散成不同形狀光斑輸出的應用上。
3. Diffractive Beam Splitting / MultiSpot
(應用：單光分束雷射加工、雷射多點劃線)
散光鏡(Beam Splitting)是用來將單一雷射光束散開成多個雷射點，每一點與原本的入射光有相同的光學特性(除了功率與傳播角(Propagational angle)外)。此產品挑選的重點為散射的繞射光點數目與繞射光點位置，有一維、二維的選擇。
4. Diffractive Beam Sampling
(應用：高功率加工雷射監控)
光束取樣片(beam samplers)被使用來監控高功率的雷射。此產品用來產生第零階的高功率繞射點、與周圍兩個第一階(+1.-1)的次功率繞射點。依照客戶的需求可為您設計兩個一階繞射點與零階繞射點的功率比，用來監控高功率的雷射穩定性。
5. Diffractive Vortex Lens
(應用：相位調控、干涉儀)
渦流鏡的用途是將一個高斯模態的輸入光轉換成一個甜甜圈形狀的能量分佈環。渦流鏡為一種獨特的元件，其結構完全由spiral or helical phase steps構成，用以做相位的控制應用(Phase control)。
6. Diffractive Dual Wavelength
(應用：多波長雷射分光、多光源匯聚)
繞射光學打開了分辨兩種同源光波長的可能性。他可將不同波長與不同來源的色光聚焦在同一個焦點或者將同源的兩個不同波長的色光，在不同焦點分別聚焦出來。
7. Diffractive Multifocal Lens
(應用：雷射多點加工、材料分層加工)
繞射光學造成了單光源多焦點產生的可能性，可以將光束匯聚在同軸的不同焦平面上，稱為 multifocal lenses，可以用在深度加工的不同層，以達到不同加工深度的應用。
8. Diffractive Lenslet Array
(應用：依客戶需求訂製雷射繞射點、鏡片加工)
微透鏡陣列(Lenslet arrays)是材料基板用為透鏡組覆蓋在上面製作而成。微透鏡陣列用於diffusers或local focusing 和 sampling。繞射微透鏡陣列的填充係數(fill factor)為100％，這是比折射微透鏡陣列好的優點。成像系統中的微透鏡像差校正(Aberration corrected)，可以很容易地設計和生產， Holo-Or 也提供一維的微透鏡陣列和中心可變的二維陣列。
9. Collimated Beam Shaping / Top-Hat / Flat-Top
(應用：準直的曝光機、雷射勻化片準直化、繞射光斑邊際優化)
此為客戶訂製化的應用規格，用以將勻化或整型後的光斑搭配準直鏡組將模糊化的邊際消除與曝曬距離的延伸，使光斑可以均勻的呈現在樣本上，達到最佳的工作效果。
10. Dielectric Mask
(應用：近、遠場圖騰、雷射印製)
Dielectric masks 是一種非常薄(~1um)的玻璃基質經過圖案化後的反射塗層。塗層的部分反射了光束；同時非塗層的部分讓光束穿透。近場的光斑輸出將非常接近塗層圖型的形狀，在遠場可能出現繞射的圖形，繞射情況如圖型所示。
11. CGHs(Computer generated holographic) lens 非球面波前繞射透鏡
材料：Fused Silica, ZnSe, ZnS, Si, Ge, GaP, GaAs, Sapphire
波長範圍：193 nm to 14 μm
最大效能(Max. efficiency)：90 % with multilevel and gray scale structures
Max. NA (@ 632.8 nm)：0.1 (multilevel) / 0.4 (binary)
通光孔徑(Clear aperture)：< 120 mm
尺寸：5 x 5 mm2 to 150 x 150 mm2
厚度：0.3 mm to 6.35 mm
表面塗層：Broadband or laser line AR