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213nm 紫外線脈衝皮秒雷射器
213nm脈衝紫外線皮秒系列平均功率可達30mW，脈寬＜50ps，重頻可達50MHz，用在量子資訊、螢光激發、光譜分析、醫學影像、細胞檢測、DNA定序、化學分析、工業加工等領域。
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213nm 脈衝紫外線奈秒雷射器
213nm脈衝紫外線奈秒系列平均功率可達500mW，能量可達100uJ，重頻可達5kHz，脈寬＜1.5ns，用在半導體檢測、光致發光、生物醫學、工業加工、代替氬離子倍頻激光器等領域。
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360nm 連續紫外線雷射器
360nm連續紫外線雷射功率可達2000mW。包括高穩定性、低雜訊、單頻（單縱模）三種類型，常用在拉曼光譜分析、全像、螢光激發、共聚焦顯微、生物工程、光電檢測、材料分析、醫療等領域。可搭配光纖、光纖支架使用。
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355nm 連續紫外線雷射器
355nm連續紫外線雷射功率可達2500mW，處於國際領先。包括高穩定、低雜訊、單頻（單縱模）三種類型，常用在拉曼光譜、生物偵測、材料分析、紫外光刻、光致發光、全像儲存等領域。
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320nm 連續紫外線雷射器
320nm連續紫外線雷射功率可達4000mW。包括高穩定性、低雜訊、單頻（單縱模）等三種類型，常用在螢光激發、紫外光刻、光化學應用、生物醫學、拉曼、量子光學、工業加工、半導體檢測等領域。
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261nm 連續紫外線雷射器
261nm連續紫外線雷射功率可達200mW。包括高穩定性、低雜訊和單頻（單縱模）三種類型，常用在拉曼、光學測試、半導體檢測、殺菌滅活、紫外光刻和螢光光譜等領域。紫外線顯示卡、雷射防護鏡可作為配件使用。