RLT系列 射頻CO2雷射器

DLT系列 合束CO2雷射器

TPS_1550_TYPE_II 量子光子源 獨立偏振糾纏光子源

TPS_1550_TYPE_II在同一個盒子中整合了致冷晶片（TEC）PPLN波導晶體和高性能泵浦激光源。可手動控制雷射泵浦功率和晶體內部溫度，透過USB介面和專有軟體介面調節波長（相位匹配）。

橢圓偏光儀用雷射器 光纖輸出

CMDL-III-488FB-30mW

PIXEA 皮秒雷射二極體

PIXEA是一款基於增益開關雷射二極管管理的高性能多功能皮秒雷射器。有靈活的控制單元和用戶友好的軟體。 PIXEA提供多種中心波長從375nm到1990nm，可產生低至50ps的超短雷射脈衝。

橢圓偏光儀用雷射器

CMDL-III-488-30mW

561nm 連續綠光雷射器

561nm綠光雷射連續功率可達2000mW。包括高穩定、低雜訊和單縱模三種機型，用在共聚焦顯微、材料分析、生物檢測、螢光激發、光致發光、全息存儲、光動力治療、眼科醫療、流式細胞儀等領域。

556nm 連續綠光雷射器

556nm綠光雷射連續功率可達2500mW，處於國際領先。包括高穩定、低雜訊和單縱模三種類型，用在全息防偽、生物分子學、醫療、化學、顯示、照明等領域。

一字線 532nm 連續綠光雷射器

一字線雷射器是由點光源通過線性發生器產生功率密度均勻<20%，直線度±0.1%，功率穩定性好並呈一字線型輸出的雷射器。該產品被廣泛應用於三維掃描測量、尺寸檢測、角度測量、平面度、位置焊接、電路板晶片檢測等工業領域，以及科研方面的PIV粒子圖像測速等領域。

532nm 單頻連續綠光雷射器

532nm單頻連續綠光雷射器功率可達15W，光譜線寬<0.00001nm，穩定性<0.1%，TEM00，光束品質<1.1，雜訊<0.01%，處於國際領先。應用於全息、拉曼、原子吸收、共聚焦顯微DNA 分子測序、流式細胞儀、數字成像、化學分析等領域。

532nm 連續綠光雷射器

532nm綠光雷射連續功率可達60W，處於國際領先。包括高穩定、低雜訊、單縱模等三種類型，用在全息光柵、PIV流場測試、拉曼光譜、NV色心、全息儲存等領域。

505nm 連續綠光雷射器

505nm綠光雷射連續功率可達500mW，包括高穩定、低雜訊兩種類型，用在生命科學、醫療、半導體市場等領域。

2600-4410nm 可調諧中紅外線連續雷射器

提供波長可調諧雷射器，輸出波長可在一定範圍內持續變化。此系列雷射提供連續波輸出功率約1000mW並具有較寬的調諧範圍。客戶可以訂購2600-4410nm清單中的任何波長範圍。廣泛用於光譜、遙感、醫療等領域。

4400nm 中紅外線連續雷射器

4400nm中紅外線雷射連續功率可達1000mW，處於國際領先。包括高穩定、壽命長等特點，用於科學研究等領域。

1268-1683nm 氣體檢測用近紅外線連續雷射器

專為氣體檢測而設計的DFB/DBR/ VCSEL雷射，如CH4、H2S、NH3、H2O、CO、CO2、C2H4、HF、C2H2等。光譜線寬達2MHz、結構緊湊、功率高及波長穩定，廣泛應用於光纖偵測、種子光源、光纖感測等領域。

1064nm 近红外連續雷射器

1064nm紅外線固體雷射連續功率可達500W，依類型分為固體雷射與光纖雷射器，主要包括單頻、低雜訊窄線寬及高穩定性三種機型，常用於光鑷、上轉換、PIV測速、 NV色心、DNA定序、雷射冷卻、螢光顯微鏡、超分辨及數位成像等領域。目前單頻1064nm雷射可實現線寬<0.00001nm，穩定性與雜訊<0.1%。

980nm 近红外連續雷射器

980nm紅外線半導體雷射連續功率可達500W，包括單縱模、低雜訊窄線寬和高穩定性三種機型，常被用在上轉換、活體成像、雷射列印及焊接、雷射防偽等領域，可配備指示光、TTL/類比調變、RS232軟體控制等功能。同時擴束器、紅外線顯示卡、雷射防護鏡等可作為配件使用。

808nm 近红外連續雷射器

808nm紅外線半導體雷射連續功率可達500W，包括單縱模、低雜訊窄線寬和高穩定性三種機型，常被用在光熱、光動力治療、焊接照明等領域，可搭配光纖、光斑大小可調末準、光纖支架等配件使用。

785nm 近红外連續雷射器

785nm紅外線半導體雷射連續功率可達3W，包括單縱模、低雜訊窄線寬及高穩定性三種機型，常用於拉曼及螢光檢測、太赫茲單片整合、顯微成像等領域。目前785nm單頻雷射可實現光譜線寬小於100MHz。

266nm 紫外線脈衝皮秒雷射器

266nm紫外線雷射脈衝皮秒系列平均功率可達8,000mW，用於光電檢測、醫療、科學研究、工業加工等領域。

213nm 紫外線脈衝皮秒雷射器

213nm脈衝紫外線皮秒系列平均功率可達30mW，脈寬＜50ps，重頻可達50MHz，用在量子資訊、螢光激發、光譜分析、醫學影像、細胞檢測、DNA定序、化學分析、工業加工等領域。

213nm 脈衝紫外線奈秒雷射器

213nm脈衝紫外線奈秒系列平均功率可達500mW，能量可達100uJ，重頻可達5kHz，脈寬＜1.5ns，用在半導體檢測、光致發光、生物醫學、工業加工、代替氬離子倍頻激光器等領域。

257nm 脈衝紫外線奈秒雷射器

257nm脈衝紫外線奈秒系列平均功率可達50mW，用在PCB、材料工程、拉曼光譜、微電子、工業加工等領域。

360nm 連續紫外線雷射器

360nm連續紫外線雷射功率可達2000mW。包括高穩定性、低雜訊、單頻（單縱模）三種類型，常用在拉曼光譜分析、全像、螢光激發、共聚焦顯微、生物工程、光電檢測、材料分析、醫療等領域。可搭配光纖、光纖支架使用。

355nm 連續紫外線雷射器

355nm連續紫外線雷射功率可達2500mW，處於國際領先。包括高穩定、低雜訊、單頻（單縱模）三種類型，常用在拉曼光譜、生物偵測、材料分析、紫外光刻、光致發光、全像儲存等領域。

320nm 連續紫外線雷射器

320nm連續紫外線雷射功率可達4000mW。包括高穩定性、低雜訊、單頻（單縱模）等三種類型，常用在螢光激發、紫外光刻、光化學應用、生物醫學、拉曼、量子光學、工業加工、半導體檢測等領域。

261nm 連續紫外線雷射器

261nm連續紫外線雷射功率可達200mW。包括高穩定性、低雜訊和單頻（單縱模）三種類型，常用在拉曼、光學測試、半導體檢測、殺菌滅活、紫外光刻和螢光光譜等領域。紫外線顯示卡、雷射防護鏡可作為配件使用。

Centurion 100Hz 脈衝二極體泵浦全固態雷射

全新的脈衝二極體雷射泵浦技術，體積小，雷射壽命超過10億發脈衝，適合需要較高重複頻率、高輸出能量的應用，如工業上長時間免維護的需求。

CFR & ULTRA Nd:YAG 脈衝雷射

CFR 與 ULTRA 提供堅固耐用、精密設計的完整封包雷射，結構上完全符合軍規標準，工業應用上適合需要非常穩定的雷射輸出作業，尤其是24/7的工業操作需求下， CFR 與 ULTRA 系列的雷射更是理想，此外還有高斯 (GRM) 與多模 (Stable) 共振腔可供使用者挑選。

Q-SMART / MERION Nd:YAG 脈衝雷射

Q-SMART和MERION是Quantel全新系列超進化的產品，也是全球最自由度最高、最有彈性的Nd:YAG脈衝雷射系統，與自動諧波產生器相互匹配，其革命性的系統不但使操作更加簡單，對雷射的能量輸出更有絕對品質上的保證，緊湊的光路設計不但使整體結構更加簡潔，還能提供近乎完美的光斑品質，搭配人性化介面的觸控螢幕，使得操作與選擇上面更加簡單。

光纖耦合雷射系統 （高功率照明、寬線補光）

光纖耦合雷射系統將雷射、光纖耦合光學元件、雷射電源和溫度控制整合到殼體中。光纖後光斑均勻，亮度高，可作為高亮度雷射焊接和高速攝影的背景光源使用。

高功率線型雷射模組/結構光

高功率線雷射/結構光雷射線寬細，能量分佈均勻。此系列雷射器用來形成一條均勻的直線做為參照線，多用於準直、機械、建築和加工行業。本產品廣泛應用於3D測量分析、隧道、橋樑、軌道偵測等。

一字線雷射器/雷射模組

一字線雷射（模組）是由點光源透過線性產生器產生功率密度均勻，直線度高，穩定性好且呈一字線型輸出的雷射。本產品廣泛應用於三維掃描測量，尺寸檢測、角度測量、平面度、位置焊接、電路板晶片檢測等。

繞射模式/繞射光學元件 (DOE)

繞射光學元件(DOE)利用具有複雜顯微結構的表面，能產生各種光學圖案。功率密度均勻分佈，觀景窗、方形網格、多線、觀景窗(圓形+交叉)、均勻圓形、多環等。