355nm 連續紫外線雷射器
355nm連續紫外線雷射功率可達2500mW，處於國際領先。包括高穩定、低雜訊、單頻（單縱模）三種類型，常用在拉曼光譜、生物偵測、材料分析、紫外光刻、光致發光、全像儲存等領域。
紫外線雷射波段包括：UVC→190-280nm、UVB→280-315nm、UVA→315-400nm，具有功率穩定、操作簡單、性能可靠、使用壽命長等特點，在光刻、拉曼光譜、螢光激發、材料分析、生物工程、干涉測量、光電檢測、全像攝影、光達、工業加工等領域有重要的應用。
超鋒科技擁有的紫外線雷射包含固體、半導體和光纖雷射。根據紫外線雷射的光學指標，包括連續、脈衝（奈秒、皮秒、飛秒）、單頻（單縱模）、低雜訊、窄線寬等類型。紫外線雷射波長有193nm、244nm、248nm、257nm、261nm、266nm、269nm、273nm、275nm、27825,838 303nm、305nm、310nm、313nm、315nm、320nm、325nm、330nm、335nm、340nm、343nm、349nm、351nm、355nm、360nm、375nm、380nm、385nm、338nm等。
355nm連續紫外線雷射器
- 355nm連續紫外線雷射功率可達2500mW，處於國際領先。包括高穩定、低雜訊、單頻（單縱模）三種類型，常用在拉曼光譜、生物偵測、材料分析、紫外光刻、光致發光、全像儲存等領域。
- 典型客戶應用：
- 科學研究所將UV-F-355高穩定性紫外線雷射應用於螢光激發。
- 大學將UV-F-355nm高穩定性紫外線雷射應用於材料分析。
雷射波長測試圖
光斑測試圖
功率穩定性測試圖
355nm的TiO2光致發光光譜（TiO2的電子特性及其對光催化（355nm）降解1-甲基萘的影響實驗）
355nm的TiO2光致發光光譜（TiO2的電子特性及其對光催化（355nm）降解1-甲基萘的影響實驗）
