Wavelength OE 雷射物鏡
該系列顯微物鏡採用平場複消色差設計,具備大數值孔徑,光點直徑小、解析度高,主要應用於 355nm、532nm 和 1064nm 雷射切割,以及半導體與通訊設備的檢測。
 
 
		
		
        
		
 
        該系列顯微物鏡採用平場複消色差設計,具備大數值孔徑,光點直徑小、解析度高,主要應用於 355nm、532nm 和 1064nm 雷射切割,以及半導體與通訊設備的檢測。
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