首頁
1
最新消息
2
技術新知
3
一文看懂雷射清洗裡的「單模」與「多模」4
https://www.steo.com.tw/ 超鋒科技股份有限公司
超鋒科技股份有限公司 238 新北市新北市樹林區東豐街49巷45號
飛秒雷射脈寬窄、頻譜寬,對色散會有特別嚴格的要求。 短脈衝對色散非常敏感,當脈衝長度的平方小於群延遲色散時,會產生顯著的脈衝展寬。 只有低色散的鏡片和膜層才能保證飛秒雷射在傳播過程中保持原有的特性。 同時,飛秒雷射在傳播過程中不可避免地會發生展寬或啁啾,需要利用特別的負色散鏡進行調節補償,因此低群速度色散GDD反射鏡和負色散鏡對飛秒雷射的應用特別關鍵。低群色散GDD鏡片和高品質負色散鏡,需要獨特的膜層技術能夠精確控制鏡片和膜層的色散特性。由於不同頻率復色光的光在同一介質中的折射率不一樣,因此不同頻率的光相速度也不一樣,導致它們會以不同的折射角被分解而在出射區域形成光譜,這就叫色散。 群速度的概念和波包相關,波包相當與多種頻率得光波組成的集合。 波包最大振幅處的傳播速度就是群速度。 當波包在介質中傳播史,由於波包中不同頻率得光波會有不同的傳播速度,於是波包的形狀會發生變化,這就是群速度色散(GVD,Group Velocity Dispersion),也稱之為群速彌散。 當脈衝長度的平方小於群延遲色散時,會產生顯著的脈衝展寬。 下圖是當脈衝通過介質時產生的脈衝展寬現象。GVD本質上指的是群速度在光通過透明介質時,它發生的變化和頻率或波長有關的現象。 這個術語也可以用作一個精確定義的量,即逆群速度對角頻率(有時是波長)的導數,GVD的值可以由以下公式表達:GVD=∂∂ω1vg=∂∂ω∂k∂ω=∂2k∂ω2其中k是頻率相關的波數,在考慮到與波導相關的應用時,我們可以用β進行代替。由於群速度色散是單位長度的群延遲色散,當我們要計算一個波導的群延遲色散時,可以用群速度色散與波導長度進行相乘,其基本單位是s2/m。 例如,二氧化矽在800 nm處的群速度色散為35 fs2/mm,在1500 nm處的群速度色散為- 26 fs2/mm。 在這些波長之間的某個地方(約1.3微米),存在著零色散波長。在光纖通信中,群速度色散的定義不是群速度對角頻率的導數,而是定義為對波長的導數。 由以下GVD參數可以計算出:Dλ=∂∂λ1vg=-2πcλ2∙GVD=-2πcλ2∂2k∂ω2上述的這個量通常以ps/(nm km)為單位(每納米波長變化的皮秒數和公里傳播距離)。 例如,20ps /(nm km)在1550nm(電信光纖的一個典型值)相當於- 25509 fs2/m。重要的是要認識到由於長波長對應較小的光學頻率而產生的GVD和Dλ的不同意義。 正態色散意味著隨著光頻率的增加群速度降低; 這在大多數情況下都會發生,而負色散與之相反。 根據不同的情況,群速度色散可以有不同的重要影響: 它與超短脈衝的色散時間展寬或壓縮有關。 在光纖中,非線性效應強烈地依賴於群速度色散。 例如,可能會有光譜展寬或壓縮,這取決於色散特性。 在參數非線性相互作用中,色散也是不同波群速度不匹配的原因。 例如,它可以限制倍頻器、光參量振蕩器和放大器的交互頻寬。 綜合上述原因,我們知道超快雷射由於時間脈寬窄,頻域譜寬較大,因此對色散會有特別嚴格的要求。 短脈衝對色散非常敏感。 當脈衝長度的平方小於群延遲色散時,會產生顯著的脈衝展寬。 群速度只有在群速彌散效應非常小的情況下才有意義,如果群速彌散效應非常大,波包可能很快就會解體,這時的群速度也就沒有意義了。 只有低色散的鏡片和膜層才能保證飛秒雷射在傳播過程中保持原有的特性。 只有低色散的鏡片和膜層才能保證飛秒雷射在傳播過程中保持原有的特性。 要使群速度色散非常小,就必須使得波包的頻寬非常小。群延遲色散(GDD)和三階色散(TOD)如果脈衝被介質反射鏡反射,改反射鏡表面鍍由高、低折射率交替相疊的薄膜層,會有一個相移在原始和反射的脈衝之間產生。 一般來說,相移Φ(ω)在中心頻率附近ω0可能擴大ω0附近的泰勒級數頻率表達式為:其中Φ' (ω0)為群延遲(GD,Group Delay),Φ'' (ω0)為群延遲色散(GDD,Group Delay Dispersion),Φ''' (ω0)為三階色散(TOD,Third Order Dispersion),更嚴格地說,這種展開式只適用於完全可以解的模型,變換限制高斯脈衝的傳播和純相位色散。 對於非常短的脈衝和振幅和相位色散的組合,數值計算可能是必要的。 然而,這一擴展清楚地顯示了單個術語的物理意義:假設相移是線性的頻率(即GD≠0, GDD = 0和TOD = 0脈衝頻寬),反射的脈衝是由不斷的群延遲的影響而發生相位延遲,當然,縮放的振幅反射率和脈衝頻譜仍將不失真。 當GDD≠0時,觀察到兩個重要效應:反射脈衝被暫時加寬。 這種展寬效應只取決於GDD的絕對值。我司提供「低GDD雷射鏡片」,即鏡片在給定波長範圍內|GDD|<20 fs2; 當脈衝被這些反射鏡反射時,需要這個鏡片的作用來保持脈衝形狀。此外,脈衝變成“啁啾”,即它在脈衝時間改變其瞬時頻率。 這種效應取決於GDD的信號,所以暫態頻率可能會變高(上調-啁啾,GDD>0)或更低(向下-啁啾,GDD<0)。 這允許通過使用負GDD反射鏡來補償非線性光學元件的正GDD效應。 如下圖所示,可以通過正負GDD來平衡色散的震蕩。同時,飛秒雷射在傳播過程中不可避免地會發生展寬或啁啾,需要利用特別的負色散鏡進行調節補償,因此低群延遲色散GDD反射鏡和負色散鏡對飛秒鐳射的應用特別關鍵。 TOD還決定了脈衝長度和脈衝形狀(有可能引起脈衝失真),在脈衝長度為20fs及以下時,TOD是一個非常重要的因素。 在低群色散GDD鏡片和高品質負色散鏡領域,需要獨特的膜層技術能夠精確控制鏡片和膜層的色散特性。 https://www.steo.com.tw/hot_512703.html 群速度色散(GVD)和群延遲色散(GDD) 2025-04-02 2026-04-02
超鋒科技股份有限公司 238 新北市新北市樹林區東豐街49巷45號 https://www.steo.com.tw/hot_512703.html
超鋒科技股份有限公司 238 新北市新北市樹林區東豐街49巷45號 https://www.steo.com.tw/hot_512703.html
https://schema.org/EventMovedOnline https://schema.org/OfflineEventAttendanceMode
2025-04-02 http://schema.org/InStock TWD 0 https://www.steo.com.tw/hot_512703.html

在工業生產中,清洗是至關重要的環節。傳統的清洗方式,如機械清洗和化學清洗,雖然能在一定程度上滿足生產需求,但往往有彈性不高、污染環境等問題。隨著科技的進步,雷射清洗技術應運而生,以其高效、環保、非接觸式的特點,逐漸成為清洗領域的新寵。其中,光纖脈衝雷射中的單模和多模是最常用的兩種雷射類型。那麼,它們之間到底有何差異呢?各自有哪些優缺點?適用於哪些應用場景?本文將為您一一揭曉。

何為單模與多模

雷射的模式通常指雷射垂直於傳播方向上平面內的能量分佈狀態,有單模與多模之分。單模指的是雷射在工作時,只產生一種模式的雷射輸出。單模的能量強度由中心至外緣逐步減弱,能量分佈形式為高斯曲線,其光束稱為基模高斯光束。單模輸出的雷射光束具有光束質量高、光束直徑小、發散角小、能量分佈接近理想高斯曲線等特性。此外,單一模具有較好的聚焦特性,聚焦光斑小且模式穩定性強,適用於需要強去除的清洗場景,如鐵鏽等。
 
單模能量分佈示意
 
多模雷射輸出的光斑則往往由多種模式組合而成,光斑內能量分佈較為均勻,且模式越多,能量分佈越均勻,其光束也稱為平頂光束。與單模相比,多模雷射的光束品質較差,發散角較大,需要較大通光孔徑的光學系統傳輸且聚焦光斑比單模大。然而,多模較容易實現大單脈衝能量、高峰值功率和高平均功率輸出,且能量分佈均勻,對於清洗要求損傷小和效率高的場景更具優勢,如模具等。
 
多模能量分佈示意

 
單模與多模雷射清洗有哪些優缺點

單模雷射由於光束品質好、聚焦光斑小和能量密度高等特點,適用於去除強附著力的污染物如青銹等,也適用於對熱輸入敏感的薄材和精密零件的清洗。然而,由於單模能量過於集中,在清洗時可能對基底材料造成一定的損傷。也適合高精密切割或3D金屬列印,精密金屬焊接應用上。

對於模具等要求清洗後基材無損傷的場景,則必須選用多模雷射。多模光束能量分佈均勻、峰值功率高,可以控制峰值功率密度高於污染物的破壞閾值而低於基材,因此清洗時能有效去除污染物而不會破壞材料表面的結構。此外,多模的聚焦光斑較大,對於單模和多模能達到相同清洗效果的場景,多模的清洗效率通常較高。然而,對於強附著的污染物,多模雷射清洗可能力不從心。

單模與多模雷射的應用場景

基於單模和多模清洗雷射各自的優缺點,二者適用的應用場景也有所不同。

單模主要應用場景:
  • 金屬除鏽:單模雷射的高能量密度使其成為金屬除鏽的理想選擇,可高效去除金屬表面的鏽蝕層,雷射功率越高,鏽斑去除能力越強且效率越高。1000W高功率單模脈衝雷射器,QBH輸出便於集成,具有清洗能力強、效率高等優點。
  • 焊接氧化物清洗:在焊接過程中,由於加工過程溫度高,焊接處及周圍容易形成氧化物及材料析出雜物影響焊接品質與外觀,200~500W單模雷射器,能夠精確清除氧化物,確保焊接後外觀及品質。
  • 精密零件清洗:100~200W單模雷射,QCS輸出,清洗能力強、熱輸出小,材料清洗後變形小、熱影響小。
  
image.png


多模主要應用場景:
  • 模具清洗:模具在使用過程中可能會累積殘留物,如塑膠、金屬碎片、灰塵等,這些殘留物會影響產品的表面質量,造成產品缺陷。定期清洗模具可以防止腐蝕和磨損,從而延長模具的使用壽命。由於模具基材與污染物特性差異較大,因此採用平頂光束可有效去除污染物且不會傷害模具。500~1000W 方形光斑多模雷射,清洗模具效率高,無損傷基材。
  • 鈣鈦礦電池清邊:指在薄膜太陽能電池片的邊緣清洗膜層,創造一個絕緣區域,利於後續的封裝工作。方形光點輸出,能量分佈均勻,峰值功率高,能夠一次清除乾淨膜層,玻璃無損傷,效率高。
  • 雷射毛化:採用雷射對材料表面進行毛化,可顯著提升材料表面的附著力。根據不同的毛化粗糙度要求, 5mJ,15mJ,50mJ不同單脈衝能量的多模雷射器,保證毛化效率的同時實現不同的粗糙度要求。
  


在選擇單模或多模清洗雷射時,客戶可依照自己的實際需求和應用場景進行綜合考量。對於精細零件或強附著污染物的清洗,如金屬氧化層和鍍層,單模系列雷射的高光束品質和小光斑將提供更精確、強力的清洗效果。而對於清洗面積較大或基材損傷要求嚴格的場合,如模具、鏽斑、油污和薄塗層等,多模系列激光器的大能量和平頂光將確保更高的清洗效率和無損清洗。

上一個 回列表 下一個